[10p-S102-1~9] 17.3 Layered materials

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)

[10p-S102-6] Stability of high-k dielectric films deposited on MoS₂ wafers

R. Otake¹, S. Li¹, T. Nishimura¹, K. Kanahashi¹, Y. Sakuma², 〇Kosuke Nagashio¹ (1.UTokyo, 2.NIMS)

Keywords:

2 dimensional materials

本研究では，2インチサファイア基板上に全面成長した単層MoS₂ウエハーを用い，転写プロセスの影響を排除した大面積high-k/MoS₂積層構造を作製し，光学特性評価によりMoS₂上high-k膜の経時特性変化を調べた．