講演情報
[10p-S102-6]MoS2ウエハー上high-k堆積で理想的な界面形成は可能か？
大竹 亮多郎1、李 曙紅1、西村 知紀1、金橋 魁利1、佐久間 芳樹2、〇長汐 晃輔1 (1.東京大学、2.NIMS)
キーワード：
２次元材料
本研究では，2インチサファイア基板上に全面成長した単層MoS2ウエハーを用い，転写プロセスの影響を排除した大面積high-k/MoS2積層構造を作製し，光学特性評価によりMoS2上high-k膜の経時特性変化を調べた．
コメント
コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン