Presentation Information
[7a-S103-4]Investigation of the steric hindrance effect of CCTBA adsorption in Co-ALD
〇Naoki Tamaoki1, Jun Yamaguchi1, Noboru Sato1, Atsuhiro Tsukune1, Yukihiro Shimogaki1 (1.The Univ. Tokyo)
Keywords:
atomic layer deposition,molecular adsorption,growth per cycle
金属CoのALDは、Cu配線を延命するCap層形成の手法として期待される他、磁気センサー等への応用も検討されている。ALDサイクルあたりの製膜量は原料分子の飽和吸着密度に比例するが、特に遷移金属表面では原料分子が分解反応を起こす複雑なメカニズムが予想される。機械学習ポテンシャルを用いた分子動力学計算によってCCTBAの吸着過程を解析した結果について報告する。