Presentation Information

3:30 PM - 4:00 PM JST(6:30 AM - 7:00 AM UTC)

[7p-N102-5]Three-dimensional Dose Distribution in Electron Beam Lithography and Its Application to Control of Resist Cross Section Shapes

〇Tatsuki Sugihara¹, Arata Kaneko² (1.ELIONIX INC., 2.Tokyo Met. Univ.)

Keywords:

electron beam lithography,resist cross-sectional shape,electron scattering

本研究では，電子ビームの散乱に影響するとされる各種パラメータ（加速電圧，電流値，ドーズ量，レジストの材料特性等）ならびに現像条件に着目し，それらがレジストパターンの側壁形状に及ぼす影響について調査するとともに，新規的なレジスト断面形状制御手法を確立することを目的として調査を行った．提案手法により3次元ドーズ量分布を変更し，レジストパターン側壁の傾斜角度を90±5˚ 程度で制御することに成功した．

Back to Session information