講演情報
[7p-N102-5]電子ビームリソグラフィにおける３次元ドーズ量分布とレジスト断面形状制御への応用
〇杉原 達記1、金子 新2 (1.(株)エリオニクス、2.都立大)
キーワード：
電子ビームリソグラフィ、レジスト断面形状、電子散乱
本研究では，電子ビームの散乱に影響するとされる各種パラメータ（加速電圧，電流値，ドーズ量，レジストの材料特性等）ならびに現像条件に着目し，それらがレジストパターンの側壁形状に及ぼす影響について調査するとともに，新規的なレジスト断面形状制御手法を確立することを目的として調査を行った．提案手法により3次元ドーズ量分布を変更し，レジストパターン側壁の傾斜角度を90±5˚ 程度で制御することに成功した．