[7p-P01-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[7p-P01-5] Preparation of the gradient Fe, Mo element functional thin film using powder mixture target process

〇Hiroharu Kawasaki¹, Takahiko Satake^1,2, Akihiro Ikeda², Toru Sasaki³, Takashi Kikuchi³ (1.Nat,l Ins. Tech., Sasebo Col., 2.Sojo Univ., 3.Nagaoka Univ.)

Keywords:

Gradient element functional thin film,Sputtering,Plasma

本研究では、これを発展させ、さらに水素脆化効果が高いMoの粉体ターゲットをもちいて、基板と薄膜の界面ではより密着性がよく、高圧水素に密着する薄膜側では水素脆化防止効果が高いような傾斜機能性薄膜の作製を試みた。結果から、ターゲット粉体中のMoO₃/ Fe₂O₃の組成比を制御することで、薄膜中のMo/Fe組成比は制御できることが示唆された。また、MoO₃/ Fe₂O₃の粉体を用いた作製した傾斜機能性薄膜のXPS分析結果から、薄膜最表面はMoが多く、基板側に進むにつれてFe成分が多くなる傾斜機能成膜が作製されていることが分かった。