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[7p-S103-2]Evaluation of MOALD-SnO2 Thin Film using Novel Sn Precursor
〇(M1)Masaki Ando1, Yoshio Ohshita2, Toshinori Numata2, Hyunju Lee4, Hideaki Machida3, Atsushi Ogura1,4 (1.School of Sci. and Technol., Meiji Univ., 2.Toyota Technological Institute, 3.Gas-Phase Growth Ltd., 4.MREL)
Keywords:
SnO2,ETL,ALD
本研究では、ペロブスカイト／シリコンタンデム太陽電池用ETLとTCO材料として、プラズマを用いず中温（240℃）で成膜可能な新規Sn原料DIPRoBA₂Snを用いたSnO₂薄膜のMOALD成膜を実施し、得られたSnO2膜についての評価を行う。得られた膜からの光電子スペクトルからはSn–O結合が確認され、近赤外で90%以上、可視域でも高い透過率を示した。酸化剤の種類や投入順による膜の比較検討も行う。