Presentation Information
[8a-N324-1]Formation of TiO2 Films Using Minimal Fab Reactive Sputtering Tool
〇Shuichi Noda1, Yuuki Yabuta2, Naoko Yamamoto2, Kamei Ryuichiro2, Noriko Miura1, Shinichi Ikeda1, Shiro Hara1,3 (1.AIST, 2.Seinan-kogyo, 3.Hundred Semiconductors)
Keywords:
minimalfab,TiO2,reactive sputter
ミニマルファブでは独自の反応性スパッタ装置を開発し、多種類の遷移金属窒化物薄膜（TiN、AlN、HfNx）の形成を可能としてきた。今回は窒化物用に改良を進めてきた装置を用いて酸化物（TiO2）薄膜の形成を行ったので、窒化物薄膜形成との比較も含め、その結果について述べる。