[8a-N324-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

10:45 AM - 11:00 AM JST(1:45 AM - 2:00 AM UTC)

[8a-N324-7] Process development method for shrinking CMOS devices in Minimal Fab

〇Noriko Miura¹, Hiroshige Kogayu², Shinichi Ikeda¹, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Hundred)

Keywords:

minimalfab,shrinking process,process development

従来のメガファブでは、3年で約0.7倍の速度で1世代ずつプロセスを確立しながら微細化が進められてきたが、ミニマルファブでは、短TAT試作,マスク不要という優位性を活かし、従来とは異なる方法で短期間に微細化プロセスの確立を目指す。その具体的方法について、議論する。