Presentation Information
[8a-N403-3]New method to analyze thickness of ultra-thin oxide film on semiconductor substrate
- Approach combining X-ray photoelectron spectroscopy spectra with numerical analysis -
〇Hiroki Takano1, Kouji Inagaki1, Kenta Arima1, Shohei Miyagawa2, Takuma Takeda2, Masayuki Otsuji2, Koichi Sawada2 (1.UOsaka, 2.SCREEN Holdings Co., Ltd.)
Keywords:
ultra-thin oxide film,semiconductor,X-ray photoelectron spectroscopy
先進的な電子デバイスでは、半導体基板上に形成した機能性薄膜の膜厚の違いが物性や機能に影響するため、膜厚を正確に把握したい。X線光電子分光法（XPS）は有力な手法だが、解析には複数の物理定数が必要である。本研究では、XPS測定結果を独自の数値解析と組み合わせ、より少ない種類の物理定数で膜厚を推定する新たな手法を提案する。定数が既知の系に対し、それらを未知と仮定して手法を適用し、 妥当性を検証した。