[8p-N321-1~19] 6.2 Carbon-based thin films

2:00 PM - 2:15 PM JST(5:00 AM - 5:15 AM UTC)

[8p-N321-3] Preparation of large diamond wafer by using 915MHz microwave plasma CVD

〇Hideaki Yamada¹, Akiyoshi Chayahara¹, Kaisyu Nitta¹, Takehiro Shimaoka¹, Yukiko Takahashi², Yuko Aakahane² (1.ASIT, 2.TDC)

Keywords:

diamond wafer,microwave plasma CVD,surface polishing

マルチインチのダイヤモンドを見据えて、915MHｚの周波数を用いたマイクロ波プラズマＣＶＤのホモエピタキシャル成長に取り組み、20kW程度の投入パワーで６インチ程度までの成膜領域をカバーできることが分かった。また、ウェハ作製に必要となる反りの低減や大面積ウェハの研磨など、モザイク単結晶ウェハ実証に必要となる要素技術開発にも取り組んだ。