講演情報
[8p-N321-3]915MHzマイクロ波プラズマCVDを用いた大面積ウェハ作製
〇山田 英明1、茶谷原 昭義1、新田 魁洲1、嶋岡 毅紘1、高橋 有希子2、赤羽 優子2 (1.産総研、2.ＴＤＣ)
キーワード：
ダイヤモンドウェハ、マイクロ波プラズマCVD、表面平滑化
マルチインチのダイヤモンドを見据えて、915MHｚの周波数を用いたマイクロ波プラズマＣＶＤのホモエピタキシャル成長に取り組み、20kW程度の投入パワーで６インチ程度までの成膜領域をカバーできることが分かった。また、ウェハ作製に必要となる反りの低減や大面積ウェハの研磨など、モザイク単結晶ウェハ実証に必要となる要素技術開発にも取り組んだ。