Presentation Information
[8p-P10-3]Effect of deposition conditions on the crystal growth of NiO by Electrostatic Spray Deposition
〇Keisuke Shibata1, Kanata Tanaka1, Mutsumi Sugiyama1,2 (1.Tokyo Univ. Sci., 2.RIST)
Keywords:
Nickel Oxide,wet process,Hole Transport Layer
静電スプレー法(ESD)はノズル-基板間に高電圧を印加することで、溶液をスプレー状にして基板上に堆積するプロセスである。ESDを用いて堆積したNiO薄膜の諸特性を理解する上では、結晶成長メカニズムの解明が重要となる。しかし、ESDにおけるNiOの結晶成長メカニズムは未解明である。そこで本研究では、ノズル-基板間距離、印加電圧、基板表面温度といった堆積条件がNiOの結晶成長に与える影響を検討した。