[8p-P10-1~49] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[8p-P10-49] Impact of non-thermal post-processes on NiO-based transparent TFTs on flexible substrates

〇Yoshiki Matsubayashi¹, Taisei Hattori¹, Yuna Koide¹, Mutsumi Sugiyama^1,2 (1.Tokyo Univ. Sci., 2.RIST)

Keywords:

Nickel Oxide,thin film transistor,flexible

本研究ではNiO系フレキシブルTTFTの実現に向け、UV処理および水素イオン注入等のポストプロセスがNiO系TTFTの電気特性等に与える影響を検討した。