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[9a-P06-1]Etch pit suppression by using Ar gas addition in Quartz Deep RIE

〇Kazuki Yoshida1, Naoya Yamada1, Toru Yahagi1, Mutsuto Katoh1 (1.Yamagata Research Inst. Tech.)

Keywords:

etch pit,RIE,quartz

CF4プラズマを用いた石英のDeep RIEにおいて、Arガス添加によるエッチピット低減効果とエッチングレートへの影響を評価した。Arガス添加によってエッチピットの形成が抑制され、加工面の平滑性が向上した。これはプロセス中に発生したマイクロマスクの除去に起因するものと予想している。またガス組成によるエッチングレートの変化も確認し、エッチピット低減と加工効率を両立できる条件について検討した。