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[9p-N323-6]Epitaxy of ZnSnP2 on GaAs using Zn3P2 as the zinc source

〇Isshin Sumiyoshi1, Yoshitaro Nose1 (1.Kyoto Univ.)

Keywords:

MBE,II-IV-V2

Zn₃P₂をZnの蒸留源に用い 、GaAs(001) 基板上に ZnSnP₂ 単結晶薄膜を作製を行った。Sn/Zn₃P₂ フラックス比に対する構造・電気特性の変化を系統的に評価し、最適条件では移動度 154 cm² V⁻¹ s⁻¹ が得られた。また、界面相の存在により薄膜中に歪が存在することが示唆された。