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[9p-N324-9]Quantitative Evaluation of Momentum Transfer by Heavy Mass Ion bombardment using HiPIMS Synchronized Pulsed Substrate Bias
〇(M1)Rina Watabe1, Fuka Nishimura1, Erdong Chen1, Tetsuhide Shimizu1 (1.Tokyo Metropolitan Univ.)
Keywords:
high-power impulse magnetron sputtering,synchronized pulsed substrate bias,momentum transfer
HiPIMS法を用いた重元素W イオン衝撃による運動量変換の遷移金属酸化物薄膜の低温結晶成長への有効性の検証を研究目的とした．薄膜の結晶性と堆積粒子当たりの総運動量変換量(Ptot/a)の関係を定量評価するため，W薄膜成長による検証実験を行い，基板バイアス電圧Us=−300 Vの条件下でPtot/a = 500 amu·eV-1/2を達成するには，ピーク電流密度4 A/cm2が要求されることを明らかにした．