[14p-P01-1~26] 6.3 Oxide electronics

[14p-P01-3] Fabrication of microrod-type VOx thin film using mist CVD method

〇Daiki Takayama¹, Hironori Fujisawa¹, Seiji Nakashima¹, Ai Osaka¹ (1.University of Hyogo)

Keywords:

vanadium oxide,mist CVD

バナジウム酸化物(VO_x)は，金属絶縁体相転移(MIT)によって電気的・光学的性質が劇的に変化するため，高感度センサ等への応用が期待されている．センサデバイスの高感度化のための表面積増大にはナノ・マイクロ立体構造の実現が重要であるが，VO_xナノワイヤに関するボトムアップ型の研究報告は少ない．本研究では，ミストCVD法を用いてVO_xマイクロロッド構造を作製し，そのマイクロ形状と結晶構造を調査した．