Presentation Information
[14p-P07-33]Patterning of resist by electron beam projection lithography using a tabletop SEM and stencil mask
〇Mina Sato1, Mie Tohnishi1, Miho Fujimoto1, Akihiro Matsutani1 (1.Science Tokyo RIM)
Keywords:
SEM,Lithography,Stencil Mask
電子線リソグラフィにおいて，高解像度を維持したまま高スループットの露光を実現するため，ステンシルマスクをレジストウエハに近接させて設置し，ステンシルマスクを透過した電子線により等倍露光するElectron- beam Projection Lithography (EPL)技術がある. これまでに，低エネルギーの電子線を用いたLow Energy EPL (LEEPL)では，専用の装置と多結晶ダイヤモンド薄膜で作製したステンシルマスクを利用し，2 kV の電子線で一括露光する方法が報告されているが，本格的な装置が必要であった．そこで，本報告では，卓上SEM とステンシルマスクでこのEPL 技術を実証した結果を報告する．
Comment
To browse or post comments, you must log in.Log in