講演情報
[14p-P07-33]卓上SEM とステンシルマスクを用いたEPL 法の開発
〇佐藤 美那1、遠西 美重1、藤本 美穂1、松谷 晃宏1 (1.Science Tokyo RIM)
キーワード：
SEM、リソグラフィ、ステンシルマスク
電子線リソグラフィにおいて，高解像度を維持したまま高スループットの露光を実現するため，ステンシルマスクをレジストウエハに近接させて設置し，ステンシルマスクを透過した電子線により等倍露光するElectron- beam Projection Lithography (EPL)技術がある. これまでに，低エネルギーの電子線を用いたLow Energy EPL (LEEPL)では，専用の装置と多結晶ダイヤモンド薄膜で作製したステンシルマスクを利用し，2 kV の電子線で一括露光する方法が報告されているが，本格的な装置が必要であった．そこで，本報告では，卓上SEM とステンシルマスクでこのEPL 技術を実証した結果を報告する．