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[15p-K302-3]Development of high-throughput 6-inch HVPE for GaAs-based solar cells

〇Ryuji Oshima1, Yasushi Shoji1, Yudai Shimizu2, Akinori Ubukata2, Kikuo Makita1, Hiroki Tokunaga2, Takeyoshi Sugaya1 (1.AIST, 2.TNSC)

Keywords:

Solar cells,III-V semiconductors,Hydride vapor phase epitaxy

安価な原料を用いて超高速成長が可能なHVPE法は、III-V族多接合太陽電池の低コスト技術として注目されている。今回、量産性向上に向けた6インチ基板の導入が可能なGaAs系HVPE装置を世界で初めて開発した。GaInP窓層を導入したGaAsセルにおいて良好なヘテロ界面が得られた一方で、GaAsベース層中に2%程度のIn原子の混入が確認され、GaAsベース層の高品質化にはIII族原料の内部切替機構の改善が課題であることが示唆された。

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