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[16a-K502-8]Evaluation of grain size and sensing properties of TlBr polycrystalline films formed by vacuum deposition

〇Kohei Toyoda1,2, Junichi Nishizawa1,3, Katsuyuki Takagi2,3, Hiroki Kase3, Toru Aoki3,2,1 (1.Shizuoka Univ. CMMP, 2.ANSeeN, 3.Shizuoka Univ. RIE)

Keywords:

semiconductor detector,Thallium Bromide,Vacuum deposition

臭化タリウム (TlBr) はX線・γ線に対して高い吸収効率を示す半導体材料である。TlBrは蒸気圧が低く、抵抗加熱真空蒸着による薄膜の形成が可能であり、大面積を必要とするX線画像検出器に適している可能性がある。本研究では、蒸着条件を変化させたときのTlBr多結晶膜の結晶粒径を評価した。また、半導体検出器の物性を調べる方法として、吸収能とエネルギーが大きくパルス検出ができる可能性の高い241Am α線のパルス検出評価を行った。

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