[17a-K303-1~11] 8.1 Plasma production and diagnostics

10:00 AM - 10:15 AM JST(1:00 AM - 1:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[17a-K303-5] Mass- and Energy-resolved Ion Angular Distribution Measurement in a Dual-frequency Capacitively Coupled Ar/Kr Plasma

〇(M1)Masayoshi Naito¹, Shunya Kawamura¹, Dohan Kim¹, Kodai Fujitani¹, Haruka Suzuki¹, Daiki Iino², Hiroyuki Fukumizu², Kazuaki Kurihara², Hirotaka Toyoda¹ (1.Nagoya Univ., 2.KIOXIA)

Keywords:

CCP,Angular distribution,Etching

基板に入射する高速粒子の入射角度分布は、エッチングにおける重要なパラメータである。これまでに我々は、マイクロチャネルプレートを用いたイメージング計測により、二周波容量結合型プラズマの高周波電極に入射する高速粒子の角度拡がりの評価手法を開発し、Time-of-flight法を用いたエネルギー分解イオン角度分布計測を報告してきた。これを応用しAr/Kr混合プラズマにおいて、質量およびエネルギー分解したイオン入射角度分布計測を行った。