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[17a-K310-5]Relationship between Ge/B ratio and segregation of B in B and Ge codoped Si crystal growth
〇LEI ZHU1, Shoma Tsukada1, Hiroki Tsukada1, Rintaro To1, Takeshi Hoshikawa1, Tosinori Taishi1 (1.Shinshu Univ)
Keywords:
Si crystal growth,B and Ge codoping,segregation coefficient
本研究では、BとGeの比を変えてSi単結晶育成を行い、結晶中のBとGeの比(Ge/B)とBの偏析係数の関係について検討した。B濃度5×1018cm-3のSi単結晶育成を目標とした。Ge充填量はB濃度に対して0、2、5.8倍となるようにした。実際の結晶中のGe/B比は目標値に比べてBの割合が小さいことから、Si結晶中にGeが添加されることにより、結晶中にBが偏析しにくくなることが示された。
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