[15a-S4_203-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

10:45 AM - 11:00 AM JST(1:45 AM - 2:00 AM UTC)

[15a-S4_203-7] Consideration of device design for manufacturing using Minimal Fab

〇Hiroyoshi Hongoh¹, Noriko Miura¹, Shinichi Ikeda¹, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Hundred)

Keywords:

minimalfab,design

デバイスを作製・分析すると現れる、デバイス特性値のばらつきは、デバイス製造プロセスの、ドーピング濃度、ゲートの酸化膜厚、エッチングで生じる寸法ゆらぎが関わっている。これらのデバイス特性に対する擾乱を考慮し、ミニマルファブのソリューションの一つであるカスタム集積回路に使用するトランジスタの設計について報告する。