[15p-70A_101-1~13] Atomic Layer Process (ALP) analysis and application technologies (3)

5:30 PM - 5:45 PM JST(8:30 AM - 8:45 AM UTC)

[15p-70A_101-12] Development of novel Co-ALD processes using neural network potential molecular

〇(P)Noboru Sato¹, Keisuke Tanichi¹, Naoyuki Hoshiya², Akiyoshi Yamauchi², Shigehito Sagisaka², Yosuke Kishikawa², Jun Yamaguchi¹, Naoki Tamaoki¹, Atsuhiro Tsukune¹, Yukihiro Shimogaki¹ (1.The Univ. of Tokyo, 2.Daikin Ind.)

Keywords:

Atomic Layer Deposition,Neural Network Potential Molecular Mechanics,Process Design

ALDは三次元構造に対し原子層レベルで均一な成膜が可能なため半導体プロセスで注目されているが、前駆体となる有機金属錯体ごとに最適条件が異なり、系統的な設計指針が不足している。本研究ではNNPを用いた高速分子動力学計算（Matlantis™）によりALDプロセス設計の効率化を検討し、新規前駆体CpCo(CO)TFEを例に反応機構予測と設計指針を示す。