[15p-70A_101-1~13] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（３）

17:30 〜 17:45

[15p-70A_101-12] NNP分子力学による新規Co-ALDプロセスの設計

〇(P)佐藤 登¹、谷地 啓輔¹、星谷 尚亨²、山内 昭佳²、匂坂 重仁²、岸川 洋介²、山口 潤¹、玉置 直樹¹、筑根 敦弘¹、霜垣 幸浩¹ (1.東大院工、2.ダイキン工業)

キーワード：

原子層堆積法、ニューラルネットワークポテンシャル分子動力学シミュレーション、プロセス設計

ALDは三次元構造に対し原子層レベルで均一な成膜が可能なため半導体プロセスで注目されているが、前駆体となる有機金属錯体ごとに最適条件が異なり、系統的な設計指針が不足している。本研究ではNNPを用いた高速分子動力学計算（Matlantis™）によりALDプロセス設計の効率化を検討し、新規前駆体CpCo(CO)TFEを例に反応機構予測と設計指針を示す。