[15p-W2_401-1~14] 15.4 III-V-group nitride crystals

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[15p-W2_401-4] Impact of pixel-size-aware current spreading design on the characteristics of stacked μLEDs

〇Koko Fukushima¹, Yuki Shimizu¹, Keisuke Takeya¹, Yoshinobu Suehiro¹, Satoshi Kamiyama¹, Tetsuya Takeuchi¹, Motoaki Iwaya¹ (1.Meijo Univ.)

Keywords:

LED,GaInN,monolithic micro LED array

積層型μLEDアレイはVR/AR応用が期待されるが、従来メサ構造では電極段差による実装課題がある。本研究では、電極高さ同一構造μLEDにおいて、電流拡散を担う電極直下n型層膜厚に着目し、110および440 ppiの画素サイズで系統的に検討した。素子サイズに応じたn型層膜厚設計が電流拡散、発光均一性およびデバイス特性に与える影響を実験的に明らかにし、従来メサ構造との比較から本構造におけるn型層の役割を検討した。