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[15p-W2_402-4]High-quality GeSn thin films synthesis on universal substrates for near-infrared device applications

〇Shintaro Maeda1,2, Takamitsu Ishiyama1,2, Takashi Suemasu1, Toko Kaoru1 (1.Univ. of Tsukuba, 2.JSPS Research Fellow)

Keywords:

GeSn,Thin film,Solid phase crystallization

Geは近赤外域に感度を有するIV族半導体として、光デバイス応用が期待されている。我々はこれまで、ガラスなどの汎用基板上に形成した多結晶Ge薄膜の高品質合成に取り組んできた。しかし、膜中に存在する欠陥や粒界がキャリア輸送を阻害し、光電流は依然として小さい。そこで本研究では、Snを添加したGe薄膜において、さらなる低欠陥化および大粒径化を図り、光デバイス用基盤材料としての可能性を検討した。