[16a-W9_324-1~12] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

11:15 AM - 11:30 AM JST(2:15 AM - 2:30 AM UTC)

[16a-W9_324-9] Effect of solvent on the growth mechanism of NiO thin films deposited by Electrostatic Spray Deposition

〇Keisuke Shibata¹, Kanata Tanaka¹, Mutsumi Sugiyama^1,2 (1.Tokyo Univ. Sci., 2.RIST)

Keywords:

Nickel Oxide,solution growth method,Electrostatic Spray

ウェットプロセスのひとつである静電スプレー堆積(ESD)法は、原料溶液を静電破壊により微細化して基板上へ供給した後、熱分解によって薄膜を形成する手法である。しかし、沸点や表面張力といった溶媒の物理的性質がNiO薄膜の成長過程に与える影響については未解明である。そこで、沸点及び表面張力が異なる溶媒を用いた際のESD法の堆積条件がNiO薄膜の成長メカニズムに与える影響ついて検討した。