講演情報
[16a-W9_324-9]静電スプレー堆積(ESD)法における原料中の溶媒がNiO薄膜の成長メカニズムに与える影響
〇柴田 圭亮1、田中 哉多1、杉山 睦1,2 (1.東理大 創域理工、2.東理大 総研)
キーワード：
NiO、溶液法、静電スプレー
ウェットプロセスのひとつである静電スプレー堆積(ESD)法は、原料溶液を静電破壊により微細化して基板上へ供給した後、熱分解によって薄膜を形成する手法である。しかし、沸点や表面張力といった溶媒の物理的性質がNiO薄膜の成長過程に与える影響については未解明である。そこで、沸点及び表面張力が異なる溶媒を用いた際のESD法の堆積条件がNiO薄膜の成長メカニズムに与える影響ついて検討した。