Presentation Information
[17a-M_278-8]Reproduction of Ferroelectric Characteristic of cristaline HfO2 and Interfacial Dipole at α-HfO2/SiO2 Interface by Machine Learning Molecular Dynamics Simulations
〇(B)Hiroki Nomura1, Yusuke Nishimura1, Junpei Ohba1, Machika Naito1, Takanobu Watanabe1 (1.Waseda Univ.)
Keywords:
Ferroelectric,Molecular Dynamics
残差学習を導入した機械学習ポテンシャルを用いた分子動力学法により、強誘電性を示す結晶HfO2の電界印加シミュレーションおよび、アモルファスのHfO2/SiO2界面構造に対するシミュレーションを行った。その結果、強誘電材料特有の分極-電界ヒステリシスおよび、界面に生じる電気的ダイポール層の再現に成功した。