Presentation Information
[18a-M_178-4]Development of 300mm wafer-scaled transition metal dichalcogenide deposition system
〇Takashi Matsumoto1, Jiho Ryu1, Yukihiro Muta1, Masahito Sugiura1 (1.Tokyo Electron Ltd)
Keywords:
2D material,transition metal dichalcogenide,chemical vapor deposition
2D CFETデバイスアプリケーション向けに, 300mmウェハースケールでのTMDC全面成膜を実現する2D material成膜装置を開発した.