2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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9:45 〜 10:00
[18a-M_178-4]
300mmウェハースケール遷移金属ダイカルコゲナイド成膜装置開発
〇松本 貴士
1
、リュウ ジホ
1
、牟田 幸浩
1
、杉浦 正仁
1
(1.東京エレクトロン)
キーワード:
二次元材料、遷移金属ダイカルコゲナイド、化学気相成長
2D CFETデバイスアプリケーション向けに, 300mmウェハースケールでのTMDC全面成膜を実現する2D material成膜装置を開発した.
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