講演情報

[18a-M_178-4]300mmウェハースケール遷移金属ダイカルコゲナイド成膜装置開発

〇松本 貴士1、リュウ ジホ1、牟田 幸浩1、杉浦 正仁1 (1.東京エレクトロン)

キーワード:

二次元材料、遷移金属ダイカルコゲナイド、化学気相成長

2D CFETデバイスアプリケーション向けに, 300mmウェハースケールでのTMDC全面成膜を実現する2D material成膜装置を開発した.