Presentation Information
[18a-PA3-17]Solid-phase epitaxy of SnO2 films by deep-UV laser annealing and its effect on dopants
〇(M1)Yukata Nakano1, Arata Ito1, Satoru Kaneko1,2, Akifumi Matsuda1 (1.Science Tokyo, 2.KISTEC)
Keywords:
tin oxide,excimer laser annealing,epitaxial thin film
結晶方位依存の高い電子移動度を示すフッ素ドープ酸化スズ（FTO）においてエピタキシャル薄膜合成、および再蒸発を抑制したドーパント濃度と物性の制御は、その応用において意義が大きい。本研究では、室温堆積したアモルファス酸化スズ薄膜に対して大気中・室温で深紫外エキシマレーザーアニール（ELA）を行い、急速固相エピタキシーを得た。また、ELAによるFTO薄膜のフッ素濃度と導電性への影響についても評価した。