Presentation Information
[18a-PB4-11]In-situ Surface Reaction Analysis of Hydrogen Radical Irradiation Effects on Residual Chlorine after Thermal-Cyclic Atomic Layer Etching of Titanium Nitride Using Chlorine Radicals.
〇(M2)Shunya Hirai1, Kazunori Shinoda2, Thi-Thuy-Nga Nguyen1, Takayoshi Tsutsumi1, Kenichi Inoue1, Kenji Ishikawa1 (1.Nagoya Univ., 2.Hitachi High-Tech Corp.)
Keywords:
Titanium Nitride,Residual Chlorine,X-ray Photoelectron Spectroscopy
窒化チタンの塩素ラジカルによる熱サイクルALEについて、エッチング後の表面に残った塩素を除去する方法として水素ラジカル照射を行い、その効果をin-situ XPSにて測定した。
その結果、表面温度140 ℃で水素ラジカルを照射したところ、エッチング後の残留物であるTiNxClやTiCl3が減少した。
この結果は、塩素系の窒化チタン熱サイクルALEのプロセス改善に寄与すると考えられる。
その結果、表面温度140 ℃で水素ラジカルを照射したところ、エッチング後の残留物であるTiNxClやTiCl3が減少した。
この結果は、塩素系の窒化チタン熱サイクルALEのプロセス改善に寄与すると考えられる。