講演情報
[18a-PB4-11]塩素ラジカルによる窒化チタン熱サイクル原子層エッチング後の残留塩素への水素ラジカル照射効果のin-situ表面反応解析
〇(M2)平井 俊也1、篠田 和典2、グエン ティ トゥイ ガー1、堤 隆嘉1、井上 健一1、石川 健治1 (1.名大、2.日立ハイテク)
キーワード:
窒化チタン、残留塩素、X線光電子分光
窒化チタンの塩素ラジカルによる熱サイクルALEについて、エッチング後の表面に残った塩素を除去する方法として水素ラジカル照射を行い、その効果をin-situ XPSにて測定した。
その結果、表面温度140 ℃で水素ラジカルを照射したところ、エッチング後の残留物であるTiNxClやTiCl3が減少した。
この結果は、塩素系の窒化チタン熱サイクルALEのプロセス改善に寄与すると考えられる。
その結果、表面温度140 ℃で水素ラジカルを照射したところ、エッチング後の残留物であるTiNxClやTiCl3が減少した。
この結果は、塩素系の窒化チタン熱サイクルALEのプロセス改善に寄与すると考えられる。
