Presentation Information
[18a-PB4-3]Development of a HiPIMS Plasma Model incorporating Particle Transport from the Ionization Region
〇Motoki Abe1, Takayuki Ohta2, Akinori Oda1 (1.Chiba Tech, 2.Meijo Univ.)
Keywords:
HiPIMS,Sputtering,Simulation
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は, 瞬間的に大電力を供給することにより, 金属粒子のイオン化率を高め, 高硬度・高密着な膜形成を可能とする成膜手法である. 一方で, HiPIMS内部の物理機構は十分に解明されていない. 本研究では, 既存のイオン化領域モデルに基板方向への粒子輸送を組み込んだモデルを構築したため, その解析結果について報告する.