講演情報
[18a-PB4-3]イオン化領域からの粒子輸送を考慮したHiPIMSプラズマモデルの構築
〇阿部 元暉1、太田 貴之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大、2.名城大)
キーワード：
大電力パルスマグネトロンスパッタリング、スパッタリング、シミュレーション
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は, 瞬間的に大電力を供給することにより, 金属粒子のイオン化率を高め, 高硬度・高密着な膜形成を可能とする成膜手法である. 一方で, HiPIMS内部の物理機構は十分に解明されていない. 本研究では, 既存のイオン化領域モデルに基板方向への粒子輸送を組み込んだモデルを構築したため, その解析結果について報告する.