Presentation Information
[18a-PB4-4]Effect of Gas Flow Ratio on Basic Characteristics of He/CO Plasmas for Hydrogen-Free DLC films Deposition
〇(M2)Tatsuya Takiguchi1, Toru Harigai2, Hiroyuki Kousaka2, Akinori Oda1 (1.Chiba Tech., 2.Gifu Univ.)
Keywords:
diamond-like carbon,plasma CVD,simulation
COガスを炭素源としたプラズマCVD法を用いることで, 水素フリーなDLC膜を成膜できる. しかし, 膜中にCO ガス由来の酸素を含むため膜硬度が向上しづらい課題がある. そこで, 高硬度な水素フリーDLC 成膜技術の開発を目的として, 容量結合型高周波He/CO プラズマモデルを構築し, He ガス密度がCO プラズマ基礎特性に及ぼす影響を報告してきた. 本報告では, 既存モデルに二次反応過程を追加した上で, CO ガス流量比がプラズマ基礎特性に及ぼす影響を検討した.