[[C]C506-3am] 19. コロイド・界面化学

10:30 〜 10:40日本語

[[C]C506-3am-04] Cu表面上の有機レイヤー成長に伴うCO₂還元性能向上のメカニズム

○磯部 淳貴¹、坂本 歩夢²、久保 和幸²、水田 勉²、久米 晶子² (1. 広大理、2. 広大院先進理工)

キーワード：

CO2還元、酸化銅(I)、有機修飾、プロトン輸送、耐久性