デバイス形成ナノプロセス

10:30 〜 10:45

[S19_3_03(学生講演)] 白金薄膜パターンを用いたn型シリコンの金属援用エッチング―エッチング時間によるマクロ孔とメソポーラス層の変化―

〇藤本 唯芽¹、仲山 拓真¹、田中 琉功¹、松本 歩¹、八重 真治¹ (1. 兵庫県立大学)