セッション詳細
デバイス形成ナノプロセス
2026年3月19日(木) 10:00 〜 12:00
電子材料(講義棟4F K406)
座長:上野 和良(芝浦工業大学)、近藤 敏彰(愛知工科大学)
主催：電子材料委員会
[S19_3_01(学生講演)]陽極酸化による多孔質シリコン上へのB-dopedダイヤモンドの堆積
〇関口 廉1、永井 慧大1、近藤 剛史1、早瀬 仁則1 (1. 東京理科大学)
[S19_3_02(一般講演)]アノード酸化によるリン含有ポーラス酸化ガリウムの作製
〇近藤 敏彰1 (1. 愛知工科大学)
[S19_3_03(学生講演)]白金薄膜パターンを用いたn型シリコンの金属援用エッチング―エッチング時間によるマクロ孔とメソポーラス層の変化―
〇藤本 唯芽1、仲山 拓真1、田中 琉功1、松本 歩1、八重 真治1 (1. 兵庫県立大学)
[S19_3_04(一般講演)]銅ナノワイヤスラリーから作製した銅薄膜の電気抵抗特性
清水 良憲1、柴田 泰宏1、梶田 浩之1、〇薦田 康夫1 (1. 三井金属株式会社)
[S19_3_05(学生講演)]GaAs基板上に形成した無電解Ni-Pめっき膜のストレス解析(2)
〇西澤 弘一郎1,2、松本 歩1、日坂 隆行2、川合 良知2、門岩 薫2、中村 勇2、市川 聡3、尾上 和之2、小島 善樹2、福室 直樹1、八重 真治1 (1. 兵庫県立大学、2. 三菱電機株式会社、3. 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター)
[S19_3_06(一般講演)]無電解銅めっきのXAFSその場測定の開発と価数評価
〇高橋 美郷1、飯原 順次1、後藤 和宏1 (1. 住友電気工業株式会社)
[S19_3_07(学生講演)]TSV-like 構造を有するマイクロ流体めっき観察デバイスの開発
- Extreme Bottom-up 観察の実現 -
〇朱 繹澤1、永井 慧太1、早瀬 仁則1 (1. 東京理科大学)
[S19_3_08(学生講演)]リバースパルスによる異なるパターン間でのめっき高さの均一化
〇安田 太一1、永井 慧大1、早瀬 仁則1 (1. 東京理科大学)