電気化学会第93回大会
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11:00 〜 11:15
[S19_3_05(学生講演)]
GaAs基板上に形成した無電解Ni-Pめっき膜のストレス解析(2)
〇西澤 弘一郎
1,2
、松本 歩
1
、日坂 隆行
2
、川合 良知
2
、門岩 薫
2
、中村 勇
2
、市川 聡
3
、尾上 和之
2
、小島 善樹
2
、福室 直樹
1
、八重 真治
1
(1. 兵庫県立大学、2. 三菱電機株式会社、3. 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター)
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