[OS10] 反応・相変化を伴う流れ

10:00 〜 10:15

[OS10-05] プラズマ誘起流を用いた高速脱臭技術High speed deodorization technology using plasma induced flow

*岡 将太郎¹、宇井 明生¹、秋田 征人¹、佐藤 陽介¹ (1. 株式会社東芝　研究開発センター)

閲覧にはパスワードが必要です

パスワードは，参加登録し決済が確認できた方にのみメール配信させていただいております．