日本金属学会2026年秋期(第179回)講演大会

座長:増田 紘士(東京大学)、FENG Bin(東京大学)

界面・粒界は、先進材料の諸特性を支配する重要な要素である。界面のナノ構造を精密に制御し潜在機能を最大限に引き出すことで、材料科学分野における革新的なブレークスルーが期待される。近年、この領域は計測・理論・合成の三つのアプローチの進展によって急速に刷新されている。第一に、電子顕微鏡やその場観察の高度化により、磁性材料を含む多様な材料界面において、原子構造と外場印加下での動的挙動まで観察することが可能になった。第二に、第一原理計算とデータ科学の発展により、界面原子構造の安定性や欠陥挙動に加え、外部場との相互作用を定量的かつ網羅的に理解する枠組みが整いつつある。第三に、外場印加焼結法や超高圧合成法など、界面制御に資する合成・プロセス技術も相次いで報告され、界面を能動的に設計するための基盤が形成されつつある。本提案では、これら三つのアプローチが交差する界面研究の最新成果を議論し、界面を活用した材料設計に向けた課題と方向性について意見交換を行う場としたい。
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）