講演情報
[22a-12N-10]光ラジカル重合型のナノインプリントレジストへの架橋剤添加による トリミングで発生する皺状構造の周期制御
〇高野 修綺1、新家 寛正1、中川 勝1 (1.東北大多元研)
キーワード：
UVナノインプリント,レジストトリミング,皺状構造
光ナノインプリントで成形した光カチオン重合型レジストをトリミングし、シリコンメタ表面の構造色の制御が試みられている。レジストの端に発生する粗さのため直径の調節範囲の限界を指摘している。光ラジカル重合型ナノインプリントレジストでは、トリミングにより周期的な皺が発生することを我々は報告した。そこで皺の周期が膜の硬さに依存する wrinkling instabilityに着目し、架橋剤の添加により皺状構造の周期を制御することを試みた。