セッション詳細

[22a-12N-1~10]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2024年3月22日(金) 9:00 〜 11:45
12N (1号館)
山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)

[22a-12N-1]回転放物面鏡を用いた立体リソグラフィ光学系の歪と光強度分布の補正

〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)

[22a-12N-2]ビルトインレンズマスクを用いた三次元フォトリソグラフィによるパターン形成

田中 敏章1、安田 雅昭1、笹子 勝1、〇平井 義彦1 (1.大阪公大)

[22a-12N-3]化学増幅系レジストを対象とした電子線リソグラフィの 確率論法-分子動力学法ハイブリットシミュレーション(2)

〇若松 大翔1、中村 大紀1、安田 雅昭1 (1.阪公大院工)

[22a-12N-4]ディープラーニング支援による化学増幅型レジストの開発

〇唐 晨1、田中 敏章2、関口 淳2、平井 義彦2、安田 雅昭2 (1.大阪府大、2.大阪公大)

[22a-12N-5]イオン液体が内包されたシリコーンマイクロカプセルアレイ構造の形成

〇大越 昌幸1、岩崎 楓1 (1.防衛大電気電子)

[22a-12N-6]UV ナノインプリントプロセスにおけるレプリカモールドの繰り返し転写と大面積化

〇田中 理沙1、大幸 武司1、谷口 淳2 (1.東洋合成工業、2.東京理科大)

[22a-12N-7]熱ナノインプリントにおける転写パターン成形性の検討

〇川田 博昭1、経遠 里菜1、平井 義彦1、菊田 久雄1 (1.大阪公立大工)

[22a-12N-8]ナノインプリントによるAR/VRグラス用傾斜型回折格子の離型プロセスに関する考察

國藤 裕成1、安田 雅昭1、〇平井 義彦1 (1.大阪公大)

[22a-12N-9]シングルナノ精度を有する光硬化成形体の蛍光強度膜厚計測法(2): 光ナノインプリント成形におけるモノマーと密着剤の重合性官能基の相同相似効果

〇稲川 亮太1、大沼 晶子1、新家 寛正1、押切 友也1、中川 勝1 (1.東北大多元研)

[22a-12N-10]光ラジカル重合型のナノインプリントレジストへの架橋剤添加による トリミングで発生する皺状構造の周期制御

〇高野 修綺1、新家 寛正1、中川 勝1 (1.東北大多元研)