講演情報
[22a-P01-17]MOD法による各種基板を用いたNdNiO2単結晶薄膜の還元条件と電気輸送特性
〇金 祥泰1、永嶋 祐紀2、後藤 大知2、加瀬 直樹1,2、宮川 宣明1,2 (1.東理大先進工、2.東理大理)
キーワード：
ニッケル酸化物,薄膜,有機金属分解法
PVD法でSTO基板上に合成したNdNiO2はWeakly Insulating(WI)となりホールドープすることで超伝導が発現する。しかしバルクにおいては半導体的振る舞いとなり、CSD法でSTO基板上に合成した薄膜においても半導体的振る舞いを示す。本発表では各種基板を用いMOD法でNdNiO2単結晶薄膜を合成し、XRD、RSMおよび電気抵抗測定を行い基板圧力と輸送特性の関係を調べた。