講演情報
[22p-12K-14]BiFeO3系強磁性･強誘電薄膜の低ダメージな微細素子加工に向けたリアクティブイオンエッチング条件の検討
Ratha Soumyaranjan1、江川 元太1、〇吉村 哲1 (1.秋田大理工)
キーワード：
強磁性･強誘電薄膜,磁気特性,反応性イオンエッチング
BiFeO3系強磁性･強誘電薄膜の将来的な磁気デバイス実装に向けた検討事項の１つとして、薄膜の微細素子加工を低ダメージで行う手法の確立がある。本研究では、リアクティブイオンエッチングの条件がBiFeO3系薄膜に及ぼすダメージの影響について調査した。